क्षेत्र गलन
जोन पिघलना ही क्रिस्टल को शुद्ध करने के समान तरीकों का एक समूह है जिसमें क्रिस्टल का एक संकीर्ण क्षेत्र पिघलाया जाता है और यह पिघला हुआ क्षेत्र क्रिस्टल के साथ चलता है पिघला हुआ क्षेत्र अशुद्ध ठोस को पिघला देता है और पिंड के माध्यम से इसके पीछे शुद्ध पदार्थ जम जाता है। और अशुद्धियाँ एकत्र हो जाती हैं व अन्य पिंड के एक सिरे पर चली जाती हैं तथा जोन परिष्करण का आविष्कार जॉन डेसमंड बर्नल ने किया था[1] और बेल लैब्स ने ट्रांजिस्टर के निर्माण के लिए शुद्ध सामग्री मुख्य रूप से अर्धचालक तैयार करने की एक विधि के रूप में इसका पहला व्यावसायिक उपयोग जर्मेनियम में किया गया था जिसे प्रति दस अरब अशुद्धियों के एक परमाणु तक परिष्कृत किया गया था [2] लेकिन प्रक्रिया को किसी भी विलायक प्रणाली में विस्तारित किया जा सकता है जिसमें संतुलन पर ठोस और तरल चरणों के बीच एक प्रशंसनीय एकाग्रता का अंतर होता है।[3] इस प्रक्रिया को प्रवाहित जोन प्रक्रिया के रूप में भी जाना जाता है।
प्रक्रिया विवरण
यदि गुणांक के ठोस चरण में एक अशुद्ध पदार्थ तरल चरण के अनुपात में एक से कम होता है इसलिए ठोस,तरल,अशुद्धता परमाणु तरल क्षेत्र में फैल जाएंगे इस प्रकार भट्ठी के एक पतले खंड के माध्यम से एक क्रिस्टल को बहुत धीरे-धीरे गर्म करके किसी भी समय बर्तन का एक छोटा सा क्षेत्र पिघलाया जाता है क्रिस्टल के अंत में अशुद्धियों को अलग किया जाता है तथा बचे हुए क्षेत्र में अशुद्धियों की कमी के कारण जो ठोस होते हैं वे क्रिस्टल विकास की एक चुनी हुई दिशा को आरंभ करने के लिए एक आधार पर रखते हैं जिससे गुलदस्ता एक पूर्ण एकल क्रिस्टल के रूप में विकसित हो जाते हैं जब उच्च शुद्धता की आवश्यकता होती तो अर्धचालक उद्योग में बर्तन का अशुद्ध सिरा काट दिया जाता है और परिष्करण दोहराया जाता है।[citation needed]
जोन परिष्करण में शेष को शुद्ध करने के लिए या अशुद्धियों को केंद्रित करने के लिए विलेय को पिंड के एक छोर पर अलग किया जाता है जोन समतल में शुद्ध सामग्री में समान रूप से विलेय वितरित करना होता है जिसे एकल क्रिस्टल के रूप में जाना जा सकता है। उदाहरण एक ट्रांजिस्टर या डायोड अर्धचालक की तैयारी में जर्मेनियम का एक पिंड जोन परिष्करण द्वारा शुद्ध किया जाता है फिर थोड़ी मात्रा में सुरमा पिघले हुए क्षेत्र में रखा जाता है जिसे शुद्ध जर्मेनियम से निकाला जाता है। गर्म करने की दर और अन्य चर के उचित विकल्प के साथ सुरमा को जर्मेनियम के माध्यम से समान रूप से फैलाया जा सकता है कंप्यूटर चिप में सिलिकॉन का उपयोग करने के लिए इस तकनीक का उपयोग किया जाता है।[citation needed]
हीटर
जोन पिघलाने के लिए विभिन्न प्रकार के हीटरों का उपयोग किया जा सकता है उनकी महत्वपूर्ण विशेषता छोटे पिघले हुए जोन बनाने की क्षमता है जो धीरे-धीरे और समान पिंड के माध्यम से चलती है। प्रेरण कुंडली वलय प्रतिरोध हीटर या गैस की लपटें सामान्य तरीके से विद्युत प्रवाह को सीधे पिंड के माध्यम से पारित किया जाता है जबकि यह एक चुंबकीय क्षेत्र में है परिणामी चुम्बकीय वाहक बल के साथ द्रव को निलंबित रखने के लिए वजन के बराबर होना चाहिए उच्च शक्ति वाले हलोजन लैंप या क्सीनन आकार लैंप का उपयोग करने वाले प्रकाश संबंधी हीटरों का उपयोग विशेष रूप से विद्युत रोधी उत्पादन अनुसंधान का उपयोग बड़े पैमाने पर किया जाता है लेकिन उद्योग में उनका उपयोग लैंप की अपेक्षाकृत कम शक्ति से सीमित होता है जो इस विधि द्वारा उत्पादित क्रिस्टल के आकार को सीमित करता है। जोन परिष्करण को एक बैच उत्पादन के रूप में प्रयोग किया जा सकता है इसमें एक सिरे पर ताजी अशुद्ध सामग्री को लगातार जोड़ा जाता है और दूसरे से शुद्ध सामग्री को हटाया जाता है साथ ही अशुद्ध क्षेत्र के पिघलने को अशुद्धता द्वारा तय की गई दर पर हटाया जाता है।[citation needed]
अप्रत्यझ गर्म परिष्करण क्षेत्र में एक प्रेरण वलय का उपयोग पिंड को विकिरण रूप से गर्म करने के लिए करते हैं और यह तब उपयोगी होते हैं जब पिंड एक उच्च-प्रतिरोधकता का होता है जिस पर शास्त्रीय प्रभाव अप्रभावी होता है।[citation needed]
अशुद्धता एकाग्रता की गणितीय अभिव्यक्ति
जब द्रव कुछ दूरी से चलता है तो तरल परिवर्तन में अशुद्धियों की संख्या अशुद्धियों को पिघलाने वाले तरल और जमने वाले ठोस में सम्मिलित किया जाता है।[4][clarification needed]
अनुप्रयोग
सौर सेल
सौर कोशिकाओं में जोन प्रसंस्करण विशेष रूप से उपयोगी होता है क्योंकि उगाए गए एकल क्रिस्टल सिलिकॉन में वांछनीय गुण होते हैं। जोन सिलिकॉन में बल्कि वाहक विभिन्न निर्माण प्रक्रियाओं में सबसे अधिक है जोनवाहक जीवनकाल अभिकर्मक विधि के साथ 20–200 माइक्रोसेकंड और क्रिस्टलीय सिलिकॉन के साथ 1–30 माइक्रोसेकंड की तुलना में लगभग 1000 माइक्रोसेकंड हैं ।[citation needed]
उच्च प्रतिरोधकता वाले उपकरण
इसका उपयोग इधर उधर क्षेत्र मे सिलिकॉन-आधारित उच्च-शक्ति अर्धचालक उपकरणों के उत्पादन के लिए किया जाता है।[5]: 364
संबंधित प्रक्रियाएं
जोन पिघलना
इसकी प्रक्रिया जोन पिघलने से है जिसमें दो विलेय होते हैं जो शुद्ध धातु के माध्यम से वितरित किए जाते हैं अर्धचालकों के निर्माण में यह महत्वपूर्ण है जहां विपरीत प्रकार के दो विलेय का उपयोग किया जाता है। उदाहरण जर्मेनियम में समूह वी के पचसंयोजी तत्व जैसे एंटीमनी और नकारात्मक चालन उत्पन्न करते हैं और बोरॉन समूह के त्रिसंयोजक तत्व जैसे एल्यूमीनियम और बोरान सकारात्मक चालन उत्पन्न करते हैं इस तरह के एक पिंड के हिस्से को पिघलाकर और धीरे-धीरे इसे फिर से जमाकर पिघले हुए क्षेत्र में विलेय जोड़ बनाने के लिए उपयोग किये जाते हैं।[citation needed]
यह भी देखें
संदर्भ
- ↑ Brown, Andrew (2005-11-24). J. D. Bernal: The Sage of Science. ISBN 9780198515449.
- ↑ ”Zone melting”, entry in The World Book Encyclopedia, Volume 21, W-X-Y-Z, 1973, page 501.
- ↑ Float Zone Crystal Growth
- ↑ James D. Plummer, Michael D. Deal, and Peter B. Griffin (2000) Silicon VLSI Technology, Prentice Hall, page 129
- ↑ Sze, S. M. (2012). Semiconductor devices : physics and technology. M. K. Lee (3 ed.). New York, NY: Wiley. ISBN 978-0-470-53794-7. OCLC 869833419.
- Hermann Schildknecht (1966) Zone Melting, Verlag Chemie.
- Georg Müller (1988) Crystal growth from the melt Springer-Verlag, Science 138 pages ISBN 3-540-18603-4, ISBN 978-3-540-18603-8
