एकीकृत परिपथ अभिन्यास

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एक साधारण CMOS परिचालन एम्पलीफायर का लेआउट दृश्य

एकीकृत परिपथ लेआउट, जिसे IC लेआउट, IC मास्क लेआउट या मास्क डिज़ाइन भी कहा जाता है, प्लानर ज्यामितीय आकृतियों के संदर्भ में एक एकीकृत सर्किट का प्रतिनिधित्व है जो धातु , सिलिकॉन ऑक्साइड , या सेमीकंडक्टर परतों के पैटर्न के अनुरूप है जो घटकों को बनाते हैं। एकीकृत सर्किट। मूल रूप से समग्र प्रक्रिया को रकम गंवाना; मर जाना कहा जाता था क्योंकि ऐतिहासिक रूप से प्रारंभिक आईसी ने फोटो इमेजिंग के लिए माइलर मीडिया पर ग्राफिकल ब्लैक क्रेप टेप का इस्तेमाल किया था (गलती से माना जाता था)[who?] चुंबकीय डेटा को संदर्भित करने के लिए - फोटो प्रक्रिया चुंबकीय मीडिया से बहुत पहले की थी[citation needed])

एक मानक प्रक्रिया का उपयोग करते समय - जहां कई रासायनिक, थर्मल और फोटोग्राफिक चर की बातचीत ज्ञात और सावधानीपूर्वक नियंत्रित होती है - अंतिम एकीकृत सर्किट का व्यवहार काफी हद तक ज्यामितीय आकृतियों की स्थिति और अंतर्संबंधों पर निर्भर करता है। कंप्यूटर-सहायता प्राप्त लेआउट टूल का उपयोग करते हुए, लेआउट इंजीनियर-या लेआउट तकनीशियन-चिप को बनाने वाले सभी घटकों को इस तरह से जोड़ता है कि वे कुछ मानदंडों को पूरा करते हैं-आमतौर पर: प्रदर्शन, आकार, घनत्व और विनिर्माण क्षमता। इस अभ्यास को अक्सर दो प्राथमिक लेआउट विषयों के बीच विभाजित किया जाता है: एनालॉग और डिजिटल।

जनरेट किए गए लेआउट को भौतिक सत्यापन के रूप में जानी जाने वाली प्रक्रिया में चेक की एक श्रृंखला पास करनी होगी। इस सत्यापन प्रक्रिया में सबसे आम जांच हैं[1][2]

  • डिज़ाइन नियम जाँच | डिज़ाइन नियम जाँच (DRC),
  • लेआउट बनाम योजनाबद्ध | लेआउट बनाम योजनाबद्ध (LVS),
  • परजीवी निष्कर्षण ,
  • भौतिक सत्यापन#एंटीना जांच, और
  • भौतिक सत्यापन # विद्युत नियम जांच (ईआरसी) | विद्युत नियम जांच (ईआरसी)।

जब सभी सत्यापन पूर्ण हो जाएं, तो डेटा तैयार करना मास्क करें[3] लागू किया जाता है जहां डेटा को उद्योग-मानक प्रारूप में भी अनुवादित किया जाता है, आमतौर पर GDSII , और एक सेमीकंडक्टर निर्माण संयंत्र को भेजा जाता है। इस डेटा को फाउंड्री में भेजने की लेआउट प्रक्रिया का मील का पत्थर पूरा होने को अब बोलचाल की भाषा में टेपआउट कहा जाता है। फाउंड्री डेटा को मास्क डेटा में बदल देती है[3]और निर्माण (अर्धचालक) की फोटोलिथोग्राफी प्रक्रिया में उपयोग किए जाने वाले फोटोमास्क उत्पन्न करने के लिए इसका उपयोग करता है।

पहले, सरल, आईसी डिजाइन के दिनों में, अपारदर्शी टेप और फिल्मों का उपयोग करके हाथ से लेआउट किया जाता था, मुद्रित सर्किट बोर्ड (पीसीबी) डिजाइन के शुरुआती दिनों से प्राप्त एक विकास - रकम गंवाना; मर जाना

आधुनिक आईसी लेआउट आईसी लेआउट संपादक सॉफ्टवेयर की सहायता से किया जाता है, ज्यादातर जगह और मार्ग उपकरण या योजनाबद्ध-संचालित लेआउट टूल सहित इलेक्ट्रॉनिक डिजाइन स्वचालन का उपयोग करके स्वचालित रूप से किया जाता है। आमतौर पर इसमें मानक कोशिकाओं का एक पुस्तकालय शामिल होता है।

ज्यामितीय आकृतियों को चुनने और स्थान देने के मैनुअल ऑपरेशन को अनौपचारिक रूप से बहुभुज पुशिंग के रूप में जाना जाता है।[4][5][6][7][8]


यह भी देखें

संदर्भ

  1. A. Kahng, J. Lienig, I. Markov, J. Hu: VLSI Physical Design: From Graph Partitioning to Timing Closure, doi:10.1007/978-90-481-9591-6, ISBN 978-90-481-9590-9, p. 10.
  2. Basu, Joydeep (2019-10-09). "From Design to Tape-out in SCL 180 nm CMOS Integrated Circuit Fabrication Technology". IETE Journal of Education. 60 (2): 51–64. arXiv:1908.10674. doi:10.1080/09747338.2019.1657787. S2CID 201657819.
  3. 3.0 3.1 J. Lienig, J. Scheible (2020). "Chap. 3.3: Mask Data: Layout Post Processing". Fundamentals of Layout Design for Electronic Circuits. Springer. p. 102-110. doi:10.1007/978-3-030-39284-0. ISBN 978-3-030-39284-0. S2CID 215840278.
  4. Dirk Jansen, editor. "The Electronic Design Automation Handbook". 2010. p. 39.
  5. Dan Clein. "CMOS IC Layout: Concepts, Methodologies, and Tools". 1999 p. 60.
  6. "Conference Record". 1987. p. 118.
  7. Charles A. Harper; Harold C. Jones. "Active Electronic Component Handbook". 1996. p. 2
  8. Riko Radojcic. "Managing More-than-Moore Integration Technology Development". 2018. p. 99


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  • विशिष्ट एकीकृत परिपथ आवेदन
  • डिजिटल डाटा
  • आंकड़े
  • के माध्यम से (इलेक्ट्रॉनिक्स)
  • सिलिकॉन सत्यापन पोस्ट करें
  • असफलता विश्लेषण
  • मास्क डेटा तैयारी
  • संवहन दस्तावेज़ स्वरूप
  • विनिर्माण क्षमता के लिए डिजाइन (आईसी)
  • सी (प्रोग्रामिंग भाषा)
  • रजिस्टर ट्रांसफर लेवल
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