आयन किरण निक्षेपण: Difference between revisions
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आयन | आयन स्रोत सामग्री में गैस के रूप में एक वाष्पित ठोस या एक समाधान तरल आयनित होता है परमाणु IBD के लिए [[इलेक्ट्रॉन आयनीकरण]], क्षेत्र आयनीकरण [[पेनिंग आयन स्रोत]] या [[कैथोडिक चाप]] स्रोत कार्यरत हैं कैथोडिक चाप स्रोत विशेष रूप से [[कार्बन]] आयन जमाव के लिए उपयोग किया जाता है जो आणविक आयन बीम जमाव [[इलेक्ट्रोस्प्रे आयनीकरण]] या [[MALDI]] स्रोतों को नियोजित करता है। | ||
आयन तब उच्च | आयन तब उच्च विद्युत संचालन शक्ति चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग करके त्वरित, केंद्रित या विक्षेपित होते हैं जमाव ऊर्जा को परिभाषित करने के लिए आणविक पर वैकल्पिक मंदी को नियोजित किया जा सकता है यह ऊर्जा आमतौर पर कुछ [[इलेक्ट्रॉनवोल्ट|इलेक्ट्रॉन संचालन शक्ति]] से लेकर कुछ केवी तक होती है कम ऊर्जा पर आणविक आयन बीम स्थिर आयन तोमल अवतरण जमा होते हैं जबकि एक उच्च जमाव ऊर्जा आणविक आयनों के टुकड़े और परमाणु आयन सामग्री में और अधिक प्रवेश कर सकते हैं एक प्रक्रिया जिसे [[आयन आरोपण]] के रूप में जाना जाता है। | ||
आयन ऑप्टिक्स (जैसे रेडियो फ्रीक्वेंसी चौगुनी) बड़े पैमाने पर चयनात्मक हो सकते हैं। आईबीडी में वे संदूषण से बचने के लिए जमाव के लिए एकल, या आयन प्रजातियों की एक श्रृंखला का चयन करने के लिए उपयोग किए जाते हैं। विशेष रूप से कार्बनिक पदार्थों के लिए, इस प्रक्रिया की निगरानी अक्सर [[मास स्पेक्ट्रोमीटर]] द्वारा की जाती है। | आयन ऑप्टिक्स (जैसे रेडियो फ्रीक्वेंसी चौगुनी) बड़े पैमाने पर चयनात्मक हो सकते हैं। आईबीडी में वे संदूषण से बचने के लिए जमाव के लिए एकल, या आयन प्रजातियों की एक श्रृंखला का चयन करने के लिए उपयोग किए जाते हैं। विशेष रूप से कार्बनिक पदार्थों के लिए, इस प्रक्रिया की निगरानी अक्सर [[मास स्पेक्ट्रोमीटर]] द्वारा की जाती है। | ||
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आयन बीम जमाव आईबीडी आयन बीम में अनुप्रयोग के माध्यम से किसी लक्ष्य पर सामग्री लगाने की एक प्रक्रिया है
एक आयन किरण निक्षेपण तंत्र में अधिकतर एक आयन स्रोत, आयन प्रकाशिकी और निक्षेपण लक्ष्य होते हैं वैकल्पिक रूप से इसमें एक जन विश्लेषक सम्मिलित किया जाता है
आयन स्रोत सामग्री में गैस के रूप में एक वाष्पित ठोस या एक समाधान तरल आयनित होता है परमाणु IBD के लिए इलेक्ट्रॉन आयनीकरण, क्षेत्र आयनीकरण पेनिंग आयन स्रोत या कैथोडिक चाप स्रोत कार्यरत हैं कैथोडिक चाप स्रोत विशेष रूप से कार्बन आयन जमाव के लिए उपयोग किया जाता है जो आणविक आयन बीम जमाव इलेक्ट्रोस्प्रे आयनीकरण या MALDI स्रोतों को नियोजित करता है।
आयन तब उच्च विद्युत संचालन शक्ति चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग करके त्वरित, केंद्रित या विक्षेपित होते हैं जमाव ऊर्जा को परिभाषित करने के लिए आणविक पर वैकल्पिक मंदी को नियोजित किया जा सकता है यह ऊर्जा आमतौर पर कुछ इलेक्ट्रॉन संचालन शक्ति से लेकर कुछ केवी तक होती है कम ऊर्जा पर आणविक आयन बीम स्थिर आयन तोमल अवतरण जमा होते हैं जबकि एक उच्च जमाव ऊर्जा आणविक आयनों के टुकड़े और परमाणु आयन सामग्री में और अधिक प्रवेश कर सकते हैं एक प्रक्रिया जिसे आयन आरोपण के रूप में जाना जाता है।
आयन ऑप्टिक्स (जैसे रेडियो फ्रीक्वेंसी चौगुनी) बड़े पैमाने पर चयनात्मक हो सकते हैं। आईबीडी में वे संदूषण से बचने के लिए जमाव के लिए एकल, या आयन प्रजातियों की एक श्रृंखला का चयन करने के लिए उपयोग किए जाते हैं। विशेष रूप से कार्बनिक पदार्थों के लिए, इस प्रक्रिया की निगरानी अक्सर मास स्पेक्ट्रोमीटर द्वारा की जाती है।
आयन बीम करंट, जो सामग्री की जमा राशि के लिए मात्रात्मक माप है, को जमा करने की प्रक्रिया के दौरान मॉनिटर किया जा सकता है। स्तुईचिओमेटरी को परिभाषित करने के लिए चयनित मास रेंज के स्विचिंग का उपयोग किया जा सकता है।
यह भी देखें
- कैथोडिक चाप जमाव
- स्पटर डिपोजिशन
- आयन बीम सहायक निक्षेपण
- आयन बीम प्रेरित निक्षेपण
- इलेक्ट्रोस्प्रे आयनीकरण
- मालदी
श्रेणी:पतली फिल्म बयान
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